硅晶片制造用除盐水设备采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水，一般通过之后，出水电导率可降到10us/cm以下，再经过混床就可以达到1us/cm以下了。沈阳水处理设备公司以高科技、高质量为前提，引进世界上最先进的除盐水设备处理技术，让我们为您排忧解难，您的满意是我们的宗旨。 硅晶片制造用除盐水设备的工艺第一种：预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺这种方法是目前采用最多的，因为反渗透投资成本也不算高，可以去除90%已上的水中离子，剩下的离子再通过混床交换除去，这样可使出水电导率：0.06左右。这样是目前最流行的方法。第二种：前处理与第二种方法一样使用反渗透，只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替，这样就不用酸碱再生树脂，而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了，经过处理后的水质可达到：15M以上。但这这种方法的前期投资比较多，运行成本低。